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光刻掩膜版的制作最重要的設(shè)備就是光刻機(jī)，光刻機(jī)英文名稱Mask Aligner，又名光刻系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)等，它采用激光直寫的方式，在光刻掩膜版上面進(jìn)行圖形繪制，從而制作出掩膜版。

光刻機(jī)是光刻掩膜版制作的核心設(shè)備，也是芯片制作的重要設(shè)備制造和維護(hù)都需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)的基礎(chǔ)，目前光刻機(jī)還是國(guó)外少數(shù)廠家掌握，因此光刻機(jī)的價(jià)格非常昂貴。