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步進式光刻掩膜版的材料是石英,因為石英掩膜版使用在深紫外光刻中使用,石英基材的熱膨脹系數(shù)非常小,所以在溫度改變時間也是相對穩(wěn)定的,而且石英基材在深UV和近深UV區(qū)域都有很高的穿透系數(shù),所以步進式掩膜版使用石英材料,也是因為其具有高光學(xué)透射性能。
步進式光刻版使用過程是需要多次曝光,由于版圖尺寸較大,一般常見為4:1或5:1,所以再硅片能夠行程亞微米級別的尺寸圖形。
正性光刻膠和暗場掩膜版
光刻掩膜版透不透光的影響
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