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　　光刻工藝其實就是一系列圖形轉(zhuǎn)移的過程，類似于照片印刷。首先，通過特定方式將版圖轉(zhuǎn)移到掩膜版表面。光刻過程中，光線透過掩膜版在硅片表面的光刻膠中形成掩膜圖形空間像，光刻膠感光后，經(jīng)過定影顯影的步驟后將掩膜圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上，而后經(jīng)過若干步驟再將掩膜圖形從光刻膠表面轉(zhuǎn)移到硅片表面，最終實現(xiàn)版圖圖形向硅片表面的轉(zhuǎn)移，然而，由于作業(yè)物理系統(tǒng)和實際環(huán)境的各種限制，這種圖形轉(zhuǎn)移過程不可能會是完全精確的，通常存在各種畸變。光刻過程中增加激光線寬使空間成像質(zhì)量變差，較大的線寬也導(dǎo)致了曝光寬容度的損失。