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在光刻掩膜版的工藝中，我們知道在光刻膠的下面是要被刻蝕形成圖案的底層薄膜，倘若這個(gè)底層是反光的，光線就有可能從這個(gè)膜層反射而且會損害臨近的光刻膠，這個(gè)損害對線寬控制將會帶來不好的影響。鑒于這種現(xiàn)象，抗反射層涂層有著很強(qiáng)的必要性。底部的抗反射涂層分為郵寄抗反射涂層和無機(jī)反射涂層兩種，兩者相比，有機(jī)抗反射涂層更容易被去除。頂部的抗反射涂層由于不吸收光，一般是作為一個(gè)透明的薄膜干涉層，通過光線間的相干相消來消除反射。