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掩膜版,又稱作光刻版、光罩、光掩膜版,英文名稱PHOTOMASK,材質有石英玻璃、蘇打玻璃、菲林版等,通過真空鍍膜形成鉻及鉻的氧化物光遮蔽層,再通過激光或電子束光刻的方法在遮蔽層上形成所需的精密圖案,主要是應用于集成電路(IC),IC封裝,微機電(MEMS),功率器件與分立器件,平板顯示行業(yè)(FPD),線路板行業(yè),以及發(fā)光二極管(LED)和精細光學元器件等行業(yè)。
蘇州硅時代電子科技有限公司(Si-Era),集高精度掩模版的設計、研發(fā)、制作與服務為一體,強大的生產(chǎn)力可實現(xiàn)三天交付,客戶提供質量更優(yōu),價格更廉,制版更快的貼心服務。