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IC（集成電路）行業(yè)專用光學(xué)掩膜版

產(chǎn)品概述：可提供多種尺寸和規(guī)格的IC行業(yè)專用光刻掩模版，提供石英和蘇打3~14 inch的基材光掩模，制作精度覆蓋0.13um,0.18um,0.25um,0.35um,0.5um及以上芯片工藝節(jié)點(diǎn)（node），最小圖形制作高達(dá)0.5um，制作精度+/-0.03um，同時(shí)，公司可提供專業(yè)的Pellicle Remount(重貼膜)服務(wù)，覆蓋ASML，NIKON，CANNON等主流光刻機(jī)類型。