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無掩膜版光刻即不采用光刻掩膜版的光刻技術(shù)，主要分為兩類，即帶電粒子無掩膜光刻和光學(xué)無掩膜技術(shù)。

無掩膜光刻具備分辨率高、成本較低等優(yōu)勢(shì)，同時(shí)也面臨著生產(chǎn)效率低的問題。電子束之間的干擾易造成鄰近效應(yīng)，耗時(shí)長，激光束準(zhǔn)確度不穩(wěn)定，與現(xiàn)有成熟工藝兼容不夠等都是想要進(jìn)入量產(chǎn)階段需要克服和解決的問題。